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Características del SiO2 depositado en fase líquida sobre GaAs tratados con (2S) 2S con una capa de pasivación de interfaz de Si ultrafina

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Características del SiO2 depositado en fase líquida sobre GaAs tratados con (2S) 2S con una capa de pasivación de interfaz de Si ultrafina

2018-09-05

Las características de la película de SiO2 depositada en fase líquida en GaAs fue investigado. Se usó una mezcla de precursores acuosos H2SiF6 y H3BO3 como solución de crecimiento. SiO2 en GaAs con tratamiento (NH4) 2S muestra buenas características eléctricas debido a la reducción de óxidos nativos y la pasivación con azufre. Las características eléctricas se mejoran aún más con una capa de pasivación de interfaz de Si ultrafina (IPL de Si) a partir de la reducción de la fijación del nivel de Fermi y la densidad del estado de la interfaz. Además, durante la deposición de SiO2, el HF en la solución de crecimiento puede eliminar simultánea y eficazmente óxidos nativos en IPL de Si y proporcionar pasivación con flúor sobre él. El condensador MOS GaAs tratado con Al / SiO2 / Si IPL / (NH4) 2S muestra propiedades eléctricas superiores. Las densidades de corriente de fuga pueden alcanzar 7.4 × 10-9 y 6.83 × 10-8 A / cm2 a ± 2 V. La densidad del estado de la interfaz puede alcanzar 2.11 × 1011 cm-2 eV-1 con baja dispersión de frecuencia del 8%.



Fuente: IOPscience


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