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  • gan on silicon

    sustrato de gan independiente

    pam-xiamen ha establecido la tecnología de fabricación para la oblea de substrato gan independiente (de nitruro de galio), que es para uhb-led y ld. cultivado por tecnología de epitaxia en fase de vapor de hidruro (hvpe), nuestro sustrato gan tiene baja densidad de defectos.

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  • blue laser

    plantillas gan

    Los productos de plantilla de pam-xiamen consisten en capas cristalinas de nitruro de galio (gan), nitruro de aluminio (aln), nitruro de aluminio y galio (algan) y nitruro de indio y galio (ingan), que se depositan en sustratos de zafiro. Los productos de plantilla de carburo de silicio o silicon.pam-xiamen permiten tiempos de ciclo de epitaxia 20-50% más cortos y capas de dispositivo epitaxial de mayor calidad, con mejor calidad estructural y mayor conductividad térmica, lo que puede mejorar los dispositivos en costo, rendimiento y rendimiento.

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  • gan expitaxy

    oblea epitaxial led basada gan

    La oblea epitaxial con base en gan (nitruro de galio) de pam-xiamen es para el ultra alto brillo en diodos emisores de luz azul y verde (led) y diodos láser (ld).

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  • gan HEMT epitaxy

    gan hemt oblea epitaxial

    Los dobladillos de nitruro de galio (transistores de alta movilidad de electrones) son la próxima generación de tecnología de transistor de potencia rf. Gracias a la tecnología gan, pam-xiamen ahora ofrece algan / gan hemt epi wafer en zafiro o silicio, y algan / gan en plantilla de zafiro .

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  • sic crystal

    sustrato sic

    pam-xiamen ofrece obleas de carburo de silicio semiconductoras, 6h sic y 4h sic en diferentes grados de calidad para el investigador y fabricantes de la industria. hemos desarrollado la tecnología de crecimiento de cristal sic y la tecnología de procesamiento de obleas de cristal sic, estableció una línea de producción para el sustrato sic del fabricante, que se aplica en dispositivos epitaxy gan, dispositivos de potencia, dispositivo de alta temperatura y dispositivos optoelectrónicos. como una empresa profesional invertida por los principales fabricantes de los campos de avanzada e investigación de materiales de alta tecnología e institutos estatales y laboratorio de semiconductores de China, nos dedicamos continuamente mejorar la calidad de los sustratos actuales y desarrollar sustratos de gran tamaño.

    etiquetas calientes : 4h sic 6h sic oblea sic oblea de carburo de silicio sustrato de carburo de silicio precio de obleas sic

  • sic crystal

    epitaxy sic

    proporcionamos epitaxy sic personalizada de película delgada (carburo de silicio) sobre sustratos de 6h o 4h para el desarrollo de dispositivos de carburo de silicio. sic epi wafer se utiliza principalmente para diodos schottky, transistores de efecto de campo de semiconductores de óxido de metal, transistores de efecto de campo de unión, transistores de unión bipolar, tiristores, gto y bipolar de puerta aislada.

    etiquetas calientes : epitaxy sic depósito de epitaxia oblea epitaxy carburo de silicio diodo sic

  • sic wafer

    aplicación sic

    debido a sus propiedades físicas y electrónicas, el dispositivo basado en carburo de silicio es muy adecuado para dispositivos electrónicos optoelectrónicos de corta longitud de onda, de alta temperatura, resistentes a la radiación y de alta potencia / alta frecuencia, en comparación con el dispositivo basado en si y gaas.

    etiquetas calientes : aplicación sic chip de oblea grabado de oblea propiedades de carburo de silicio mosfet de carburo de silicio

  • GaAs crystal

    obleas de gaas (arseniuro de galio)

    pwam desarrolla y fabrica sustratos semiconductores compuestos: cristal de arseniuro de galio y wafer.we ha utilizado tecnología avanzada de crecimiento de cristales, congelación de gradiente vertical (vgf) y tecnología de procesamiento de obleas gaas, estableció una línea de producción de crecimiento de cristales, corte, pulido para procesamiento de pulido y construcción una sala limpia de 100 clases para limpieza y empaquetado de obleas. nuestra oblea gaas incluye lingote / obleas de 2 a 6 pulgadas para aplicaciones de led, ld y microelectrónica. Siempre estamos dedicados a mejorar la calidad de los actuales subestados y a desarrollar sustratos de gran tamaño.

    etiquetas calientes :

  • GaAs crystal

    gaas epiwafer

    estamos fabricando varios tipos de materiales semiconductores de tipo n dopados con silicio iii-v epi wafer basados ​​en ga, al, in, as yp cultivados por mbe o mocvd. suministramos estructuras personalizadas para cumplir con las especificaciones del cliente. Por favor contáctenos para más información.

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  • InP substrate

    oblea inp

    xiamen powerway ofrece obleas inp - fosfuro de indio que se cultivan mediante lec (czochralski encapsulado en líquido) o vgf (congelación en gradiente vertical) como grado epi-ready o mecánico con tipo n, tipo p o semi-aislante en diferente orientación (111) o ( 100).

    etiquetas calientes : oblea inp substrato inp oblea de fosfuro de indio sustrato de fosfuro de indio precio de la oblea inp fabricantes de fosfuro de indio

  • InAs substrate

    inas wafer

    xiamen powerway ofrece inas wafer - arseniuro de indio que se cultivan mediante lec (czochralski encapsulado en líquido) como epi-ready o grado mecánico con tipo n, tipo p o semi-aislante en diferentes orientaciones (111) o (100).

    etiquetas calientes : inas wafer inas sustrato oblea de arseniuro de indio sustrato de arseniuro de indio semiconductor de arseniuro de indio estructura de arseniuro de indio

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