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obleas epitaxiales inp

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obleas epitaxiales inp

2017-08-22

El fosfuro de indio (inp) es un material semiconductor clave que permite a los sistemas ópticos ofrecer el rendimiento requerido para las aplicaciones de data center, backhaul móvil, metro y larga distancia. los láseres, fotodiodos y guías de onda fabricados en inp funcionan en la ventana de transmisión óptima de fibra de vidrio, lo que permite comunicaciones de fibra eficaces. La tecnología patentada facet (eft) de pam-xiamen permite realizar pruebas de nivel de obleas de forma similar a la fabricación tradicional de semiconductores. eft permite láser de alto rendimiento, alto rendimiento y confiables.



1) oblea de 2 \"inp

orientación: ± 0.5 °

tipo / dopante: n / s; n / no dopado

espesor: 350 ± 25 mm

movilidad: \u0026 gt; 1700

concentración del portador: (2 ~ 10) e17

epd: \u0026 lt; 50000cm ^ -2

pulido: ssp


2) oblea de 1 \", 2\" inp

orientación: ± 0.5 °

tipo / dopante: n / no dopado

espesor: 350 ± 25 mm

movilidad: \u0026 gt; 1700

concentración del portador: (2 ~ 10) e17

epd: \u0026 lt; 50000cm ^ -2

pulido: ssp


3) oblea de 1 \", 2\" inp

orientación: a ± 0.5 °

tipo / dopante: n / s; n / no dopado

espesor: 350 ± 25 mm

pulido: ssp


4) oblea de 2 \"inp

orientación: b ± 0.5 °

tipo / dopante: n / te; n / undoped

espesor: 400 ± 25 mm; 500 ± 25 mm

pulido: ssp


5) oblea inp de 2 \"

orientación: (110) ± 0.5 °

tipo / dopante: p / zn; n / s

espesor: 400 ± 25mm

pulido: ssp / dsp


6) oblea inp de 2 \"

orientación: (211) b; (311) b

tipo / dopante: n / te

espesor: 400 ± 25mm

pulido: ssp / dsp


7) oblea de 2 \"inp

orientación: (100) 2 ° off +/- 0.1 degree t.n. (110)

tipo / dopante: si / fe

espesor: 500 ± 20mm

pulido: ssp


8) tamaño 2 ingaas / inp oblea epitaxial, y aceptamos especificaciones personalizadas.

sustrato: sustrato (100) inp

epi capa 1: in0.53ga0.47 como capa, sin dopar, espesor 200 nm

epi layer 2: in0.52al0.48 como capa, sin dopar, espesor 500 nm

epi capa 3: in0.53ga0.47 como capa, sin dopar, espesor 1000 nm

capa superior: capa in0.52al0.48as, sin dopado, grosor 50 nm


xiamen powerway advanced material co., ltd (pam-xiamen) ofrece las obleas epitaxiales ingaas / inp de mayor pureza en la industria actual. Se han implementado sofisticados procesos de fabricación para personalizar y producir obleas epitaxiales de fosfato de indio de alta calidad de hasta 4 pulgadas con longitudes de onda de 1.7 a 2.6 μm, ideales para alta velocidad, imágenes de longitud de onda larga, alta velocidad de hbt y dobladillos, apds y análogos. circuitos de convertidor digital. las aplicaciones que utilizan componentes basados ​​en inp pueden superar con creces las velocidades de transmisión en comparación con componentes similares estructurados en plataformas basadas en gaas o sige.


productos relativos:

inas wafer

oblea insb

oblea inp

oblea gaas

oblea de gas

oblea de brecha


fuente: semiconductorwafers.net


Para obtener más información, por favor visite nuestro sitio web: http://www.semiconductorwafers.net ,

envíenos un correo electrónico a angel.ye@powerwaywafer.com o powerwaymaterial@gmail.com .





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