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caracterización de 6.1 Å iii-v materiales cultivados en gaas y si: una comparación de gasb / gaas epitaxy y gasb / alsb / si epitaxy

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caracterización de 6.1 Å iii-v materiales cultivados en gaas y si: una comparación de gasb / gaas epitaxy y gasb / alsb / si epitaxy

2018-01-18

reflejos

• los diodos de gasb p-i-n se cultivaron en si y gaas utilizando matrices de inadaptación interfacial (imf).

• Las imágenes de microscopía electrónica de transmisión revelaron matrices de dislocaciones inadaptadas de 90 °.

• Se encontraron densidades de dislocación de subprocesamiento de alrededor de la fuente de mathml en cada caso.

• se encontraron menores corrientes oscuras y mayor eficiencia cuántica para el crecimiento en gaas.


abstracto

Los fotodiodos de gasb p-i-n se cultivaron en gaas y si, utilizando matrices de desajuste interfacial, y en gas natural. para las muestras cultivadas en gaas y si, las imágenes de microscopía electrónica de transmisión de alta resolución revelaron periodicidades atómicas de interfaz de acuerdo con el modelado atomístico. se midieron las densidades de defecto de superficie de la fuente mathml para ambas muestras. los escaneos de microscopía de fuerza atómica revelaron rugosidades superficiales de alrededor de 1,6 nm, en comparación con 0,5 nm para la muestra cultivada en gas natural. se usaron medidas de respuesta de corriente oscura y espectral para estudiar las propiedades eléctricas y optoelectrónicas de las tres muestras.


palabras clave

a1 microscopía de fuerza atómica; a1 defectos; a1 difracción de rayos X de alta resolución; a1 interfaces; a3 epitaxia de haz molecular; b1 antimonides


fuente: sciencedirect


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