casa / productos / oblea de germanio /

ge (germanio) monocristales y obleas

productos
ge (germanio) monocristales y obleas

ge (germanio) monocristales y obleas

pam ofrece materiales semiconductores, cristal único (ge), oblea de germanio cultivada por vgf / lec

  • Moq :

    1
  • detalles del producto


cristal único (ge) germanio oblea


pam ofrece materiales semiconductores, ge (germanio) monocristales y obleas crecido por vgf / lec

propiedades generales de la oblea de germanio


general  estructura de propiedades

cúbico, a =  5.6754 Å

densidad: 5.765  g / cm3

derritiendo  punto: 937.4 oc

térmico  conductividad: 640

crecimiento cristalino  tecnología

czochralski

dopaje  disponible

sin dopar

doblar

dopaje en o  Georgia

tipo conductivo

/

norte

pag

resistividad, ohm.cm

u0026 gt; 35

u0026 lt; 0.05

0.05 - 0.1

epd

u0026 lt; 5x10 3 /cm 2

u0026 lt; 5x10 3 /cm 2

u0026 lt; 5x10 3 /cm 2

u0026 lt; 5x10 2 /cm 2

u0026 lt; 5x10 2 /cm 2

u0026 lt; 5x10 2 /cm 2

grados y aplicación de la oblea de germanio

grado electrónico

usado para diodos  y transistores,

infrarrojo o  grado crítico

utilizado para ir  ventana o discos ópticos, componentes opcionales

grado celular

utilizado para sustratos de  célula solar


especificaciones estándar de cristal y oblea de germanio

cristal  orientación

u0026 lt; 111 u0026 gt;, u0026 lt; 100 u0026 gt;  y u0026 lt; 110 u0026 gt; ± 0.5 o o una orientación personalizada

cristal boule como  crecido

1 "~  6 "de diámetro x 200 mm de longitud

estándar en blanco  como corte

1 "x 0.5mm

2 "x0.6 mm

4 "x0.7 mm

5 "y 6" x0.8 mm

estándar  oblea pulida (uno / dos lados pulidos)

1 "x 0.30 mm

2 "x0.5 mm

4 "x0.5 mm

5 "y 6" x0.6 mm

tamaño y orientación especiales están disponibles en las obleas solicitadas


especificación de la oblea de germanio

ít

presupuesto

observaciones

método de crecimiento

vgf

tipo de conducción

tipo n, tipo p,  sin dopar

dopante

galio o  antimonio

diámetro de la oblea

2, 3,4 y amp; 6

pulgada

cristal  orientación

(100), (111), (110)

espesor

200 ~ 550

um

de

ej o nosotros

portador  concentración

solicitud sobre  clientes

u0026 emsp;

resistividad en  rt

(0.001 ~ 80)

ohm.cm

Grabar la densidad del hoyo

u0026 lt; 5000

/ cm2

marcado con láser

a pedido

acabado de la superficie

p / e o p / p

epi listo

paquete

oblea individual  contenedor o cassette

u0026 emsp;


Oblea ge de 4 pulgadas  especificación

para células solares

u0026 emsp;

dopaje

pag

u0026 emsp;

dopaje  sustancias

ge-ga

u0026 emsp;

diámetro

100 ± 0.25  mm

u0026 emsp;

orientación

(100) 9 ° de descuento  hacia u0026 lt; 111 u0026 gt; +/- 0.5

fuera de orientación  ángulo de inclinación

n / A

u0026 emsp;

piso primario  orientación

n / A

u0026 emsp;

piso primario  longitud

32 ± 1

mm

piso secundario  orientación

n / A

u0026 emsp;

piso secundario  longitud

n / A

mm

cc

(0.26-2.24) e18

/c.c

resistividad

(0,74-2,81) e-2

ohm.cm

electrón  movilidad

382-865

cm2 / v.s.

epd

u0026 lt; 300

/ cm2

marca láser

n / A

u0026 emsp;

espesor

175 ± 10

μm

ttv

u003c 15

μm

tir

n / A

μm

arco

u0026 lt; 10

μm

deformación

u003c 10

μm

cara frontal

pulido

u0026 emsp;

cara posterior

suelo

u0026 emsp;

proceso de obleas de germanio


en el proceso de producción de obleas de germanio, el dióxido de germanio del procesamiento del residuo se purifica adicionalmente en las etapas de cloración e hidrólisis.

1) se obtiene germanio de alta pureza durante la refinación de la zona.


2) un cristal de germanio se produce a través del proceso czochralski.


3) la oblea de germanio se fabrica mediante varios pasos de corte, esmerilado y grabado.


4) las obleas se limpian e inspeccionan. durante este proceso, las obleas son pulidas por un lado o pulidas por el lado doble según los requisitos personalizados, viene la oblea epi-ready.


5) las obleas se envasan en recipientes de oblea individuales, bajo una atmósfera de nitrógeno.


solicitud:

El blanco o la ventana de germanio se utilizan en soluciones de visión nocturna y de termografía para equipos de seguridad comercial, extinción de incendios y control industrial. Además, se utilizan como filtros para equipos analíticos y de medición, ventanas para medición remota de temperatura y espejos para láseres.

los sustratos finos de germanio se utilizan en las células solares de triple unión iii-v y para los sistemas de potencia concentrada pv (cpv).

etiquetas calientes :

Contáctenos

Si desea un presupuesto o más información sobre nuestros productos, por favor déjenos un mensaje, le responderemos lo antes posible.

Productos relacionados

oblea de silicio

oblea de prueba oblea oblea de oblea

pam-xiamen ofrece oblea ficticia / oblea de prueba / oblea de monitor

gaas cristal

gaas epiwafer

estamos fabricando varios tipos de materiales semiconductores de tipo n dopados con silicio iii-v epi wafer basados ​​en ga, al, in, as yp cultivados por mbe o mocvd. suministramos estructuras personalizadas para cumplir con las especificaciones del cliente. Por favor contáctenos para más información.

sustrato de gas

oblea de gas

xiamen powerway ofrece oblea de gas - antimoniuro de galio que se cultivan mediante lec (czochralski encapsulado en líquido) como grado epi-ready o mecánico con tipo n, tipo p o semi-aislante en diferente orientación (111) o (100)

epitaxia de silicio

oblea de silicio epitaxial

oblea epitaxial de silicio (oblea epi) es una capa de silicio monocristalino depositada sobre una oblea de silicio de cristal único (nota: está disponible para hacer crecer una capa de capa de silicio policristalino encima de una oblea de silicio monocristalina altamente dopada, pero necesita capa de amortiguación (tal como óxido o poli-si) entre e7

cristal sic

reclamo de oblea sic

pam-xiamen puede ofrecer los siguientes servicios de reclamo sic reclaim.

oblea de silicio

silicio monocristalino de la zona flotante

fz-silicon el silicio monocristalino con las características de bajo contenido de material extraño, baja densidad de defectos y estructura cristalina perfecta se produce con el proceso de zona flotante; no se introduce material extraño durante el crecimiento del cristal. la conductividad de fz-silicio suele ser superior a 1000 Ω-cm, y el fz-silicio7

gan en silicio

sustrato de gan independiente

pam-xiamen ha establecido la tecnología de fabricación para la oblea de substrato gan independiente (de nitruro de galio), que es para uhb-led y ld. cultivado por tecnología de epitaxia en fase de vapor de hidruro (hvpe), nuestro sustrato gan tiene baja densidad de defectos.

gaas cristal

obleas de gaas (arseniuro de galio)

pwam desarrolla y fabrica sustratos semiconductores compuestos: cristal de arseniuro de galio y wafer.we ha utilizado tecnología avanzada de crecimiento de cristales, congelación de gradiente vertical (vgf) y tecnología de procesamiento de obleas gaas, estableció una línea de producción de crecimiento de cristales, corte, pulido para procesamiento 7

Contáctenos

Si desea un presupuesto o más información sobre nuestros productos, por favor déjenos un mensaje, le responderemos lo antes posible.
   
Chatea ahora contáctenos & nbsp;
Si desea un presupuesto o más información sobre nuestros productos, por favor déjenos un mensaje, le responderemos lo antes posible.