2020-03-17
2020-03-09
El grabado húmedo es un paso importante en la fabricación de semiconductores y obleas solares y para la producción de dispositivos MEMS. Si bien ha sido reemplazada por la tecnología de grabado en seco más precisa en la fabricación de dispositivos semiconductores avanzados, sigue desempeñando un papel importante en la fabricación del propio sustrato de silicio. También se utiliza para aliviar la tensión y texturizar la superficie de las obleas solares en gran volumen. Se revisará la tecnología de grabado húmedo de silicio para semiconductores y aplicaciones solares. Impacto en este paso para obleaSe presentarán propiedades y parámetros críticos (planitud, topología y rugosidad superficial para obleas semiconductoras, textura superficial y reflectancia para obleas solares). Se presentará la justificación del uso de una tecnología de grabado y un grabador para aplicaciones específicas en la fabricación de semiconductores y obleas solares.
Fuente:IOPscience
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