en este trabajo, se revisan los desarrollos de producir obleas no polares (es decir, m-plano y plano) y semipolar (es decir, plano (20.1)) por método amonotermal. el método de crecimiento y los resultados de pulido se describen. logramos producir obleas no semicubulares de 26 mm × 26 mm. estas obleas poseen propiedades estructurales y ópticas sobresalientes, con densidad de dislocación por roscado...
Se fabricaron matrices en escala de obleas de pb (zr0.2ti0.8) o3 nanodiscos y nanorings bien ordenados en toda el área (10 mm × 10 mm) del electrodo inferior del srruo3 en un sustrato monocristalino srtio3 utilizando la litografía de interferencia láser. (lil) proceso combinado con deposición de láser pulsado. la forma y el tamaño de las nanoestructuras se controlaron por la cantidad de pzt deposi...
informamos el crecimiento de la epitaxia del haz químico au-asistido de nanoalambres Insble de zincblenda libre de defectos. el adulto insub los segmentos son las secciones superiores de inas / insteroestructuras en inas (111) b substratos. mostramos, a través del análisis de hrtem, que el zincblenda insb se puede cultivar sin defectos cristalinos, tales como fallas de apilamiento o planos gemelos...
microestructuras de sub-monocapa tensil a alta tensión en gas se han cultivado mediante epitaxia de haz molecular y se han estudiado mediante microscopía de túnel de barrido de ultra alto vacío. cuatro tasas de cobertura diferentes de ge nanoestructuras en gasb se logran e investigan. se encuentra que el crecimiento de ge en gasb sigue el modo de crecimiento 2d. la red cristalina de la sub-monocap...
Para los materiales homogéneos, el método de inmersión ultrasónica, asociado con un proceso de optimización numérico basado principalmente en el algoritmo de Newton, permite la determinación de constantes elásticas para diversos materiales compuestos sintéticos y naturales. Sin embargo, una limitación principal del procedimiento de optimización existente ocurre cuando el material considerado está ...
Se ha desarrollado un epi-reactor de pared caliente vertical que hace posible lograr simultáneamente una alta tasa de crecimiento y uniformidad de área grande. Se alcanza una tasa de crecimiento máxima de 250 µm / h con una morfología similar a un espejo a 1650 ° C. Bajo una modificada epi-reactor La configuración, una uniformidad de grosor de 1.1% y una uniformidad de dopaje de 6.7% para un área ...