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plantillas gan
Los productos de plantilla de pam-xiamen consisten en capas cristalinas de nitruro de galio (gan), nitruro de aluminio (aln), nitruro de aluminio y galio (algan) y nitruro de indio y galio (ingan), que se depositan en sustratos de zafiro. Los productos de plantilla de carburo de silicio o silicon.pam-xiamen permiten tiempos de ciclo de epitaxia 20-50% más cortos y capas de dispositivo epitaxial de mayor calidad, con mejor calidad estructural y mayor conductividad térmica, lo que puede mejorar los dispositivos en costo, rendimiento y rendimiento. -
sustrato de gan independiente
pam-xiamen ha establecido la tecnología de fabricación para la oblea de substrato gan independiente (de nitruro de galio), que es para uhb-led y ld. cultivado por tecnología de epitaxia en fase de vapor de hidruro (hvpe), nuestro sustrato gan tiene baja densidad de defectos. -
oblea epitaxial led basada gan
La oblea epitaxial con base en gan (nitruro de galio) de pam-xiamen es para el ultra alto brillo en diodos emisores de luz azul y verde (led) y diodos láser (ld). -
gan hemt oblea epitaxial
Los dobladillos de nitruro de galio (transistores de alta movilidad de electrones) son la próxima generación de tecnología de transistor de potencia rf. Gracias a la tecnología gan, pam-xiamen ahora ofrece algan / gan hemt epi wafer en zafiro o silicio, y algan / gan en plantilla de zafiro . -
máscara de foto
pam-xiamen ofrece fotomáscaras una máscara fotográfica es una fina capa de material de enmascaramiento sostenida por un sustrato más grueso, y el material de enmascaramiento absorbe la luz en diversos grados y se puede modelar con un diseño personalizado. el patrón se utiliza para modular la luz y transferir el patrón a través del proceso de fotolitografía, que es el proceso fundamental utilizado para construir casi todos los dispositivos digitales de hoy en día.etiquetas calientes : máscara de foto fotomáscara fabricación fotomáscara impresión fotomáscara mems tecnología impresión de máscara de fotolitografía
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nanofabricación
pam-xiamen ofrece una placa fotorresistente con fotorresistencia podemos ofrecer nanolitografía (fotolitografía): preparación de la superficie, aplicación fotorresistente, cocción suave, alineación, exposición, desarrollo, horneado duro, desarrollo de inspección, grabado, eliminación de fotoresist (tira), inspección final.etiquetas calientes : fotolitografía nanofabricación fabricación de obleas fotorresistencia fabricación de semiconductores fabricación de obleas
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inas wafer
xiamen powerway ofrece inas wafer - arseniuro de indio que se cultivan mediante lec (czochralski encapsulado en líquido) como epi-ready o grado mecánico con tipo n, tipo p o semi-aislante en diferentes orientaciones (111) o (100).etiquetas calientes : inas wafer inas sustrato oblea de arseniuro de indio sustrato de arseniuro de indio semiconductor de arseniuro de indio estructura de arseniuro de indio
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