2020-03-17
2020-03-09
sustratos para deposición de película de nitruro iii-v
cristal
estructura
m.p.
densidad
mal emparejamiento de celosía
expansión térmica
tecnología de crecimiento. .\u0026amperio; tamaño máximo
tamaño de sustrato estándar (mm)
o do
g / cm 3
(10 -6 / k)
sic
(6h como ejemplo)
hexagonal
~ 2700
3.21
3.5% atori.
10.3
cvd
Ø2 \"x 0.3, Ø3\" x0.3
a = 3.073 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
20x20x0.3,15x15x0.3
c = 15.117 Å
\u0026 emsp;
Ø3 \"
10x10x0.3,5x5x0.3
\u0026 emsp;
subl.
\u0026 emsp;
1 lado epi pulido
Alabama 2 o 3
hexagonal
2030
3.97
14% atori.
7.5
cz
Ø50 x 0.33
a = 4.758 Å
\u0026 emsp;
Ø25 x 0.50
c = 12.99 Å
Ø2 \"
10x10x0.5
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
1 o 2 lados epi pulido
lialo 2
tetragonal
1900 ~
2.62
1.4% atori.
/
cz
10x10x0.5
a = 5.17 Å
Ø20 mm
1 o 2 lados epi pulido
c = 6.26 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
ligao 2
Orthor.
1600
4.18
0.2% atori.
/
cz
10x10x0.5
a = 5.406 Å
Ø20 mm
1 o 2 lados epi pulido
b = 5.012Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
c = 6.379 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
mgo
cúbico
2852
3.58
3% atori.
12.8
flujo
2 \"x2\" x 0.5 mm, Ø2 \"x 0.5 mm
a = 4.216 Å
\u0026 emsp;
1 \"x1\" x 0.5 mm, Ø1 \"x 0.5 mm
\u0026 emsp;
Ø2 \"
10 x10x0.5 mm
1 o 2 lados epi pulido
mgal 2 o 4
cúbico
2130
3.6
9% atori.
7.45
cz
Ø2 \"x 0.5
a = 8.083 Å
Ø2 \"
10x10x0.5
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
1 o 2 lados epi pulido
zno
hexag.
1975
5.605
2.2% atori.
2.9
hidro-térmico
20x20x0.5
a = 3.325 Å
20 mm
1 o 2 lados epi pulido
c = 5.213 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
gan
hexagonal
\u0026 emsp;
6.15
\u0026 emsp;
5.59
\u0026 emsp;
10x10x0.475mm
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
5x5x0.475mm