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  • experimentos de deformación revelan información sobre los cambios de material durante la compresión de choque

    2016-09-05

    esta imagen muestra la configuración experimental, en la cual una muestra de tántalo se carga con un rayo láser y es sondeada por un rayo de rayos X. los patrones de difracción, recogidos por una serie de detectores, muestran que el material se hermana. la ilustración de fondo muestra una estructura de celosía que ha creado gemelos. crédito: ryan chen / llnl por primera vez, los científicos han informado experimentos de difracción in situ que miden el hermanamiento de deformación en el nivel reticular durante la compresión de choque. los resultados fueron publicados recientemente en la naturaleza por un equipo de investigadores del laboratorio nacional lawrence livermore y colaboradores de la universidad de oxford, el laboratorio nacional de los alamos, la universidad de york y el laboratorio nacional de acelerador slac. La compresión de choque es un área de estudio desafiante, ya que combina condiciones extremas, como altas presiones y temperaturas, con escalas de tiempo ultrarrápidas. para simplificar el problema, los científicos a menudo suponen que los materiales sólidos se comportan como un fluido, fluyen y cambian su forma (plasticidad) sin resistencia. sin embargo, como un sólido, la mayoría de los materiales también retienen una estructura de celosía. a medida que un material fluye, cambia de forma, de alguna manera el enrejado debe cambiar también manteniendo al mismo tiempo el patrón regular del enrejado. el estudio de la plasticidad en un nivel más fundamental se basa entonces en la comprensión de cómo está cambiando el enrejado mientras un material se está deformando. dislocación-deslizamiento (donde las dislocaciones de celosía se generan y se mueven) y hermanamiento (donde los subgranos se forman con una retícula de espejo) son los mecanismos básicos de la deformación plástica. a pesar de su importancia fundamental para la plasticidad, el diagnóstico del mecanismo activo in situ (durante el choque) ha sido esquivo. investigaciones previas han estudiado el material después del hecho (en \"recuperación\"), lo que introduce factores complicados adicionales y ha llevado a resultados contradictorios. \"Los experimentos de difracción in situ han existido durante algunas décadas, pero han ganado notoriedad recientemente ya que los láseres de alta potencia y los láseres de electrones libres de rayos X han hecho que las mediciones estén más ampliamente disponibles, sean más sensibles y puedan llegar a condiciones más extremas\". dijo Chris Wehrenberg, primer físico y autor principal del artículo. \"Nuestro trabajo destaca un área de estudio sin explotar, la distribución de la señal dentro de los anillos de difracción, que puede proporcionar información importante\". los experimentos del equipo se llevaron a cabo en la nueva estación de extremo de condiciones extremas, ubicada en la fuente de luz coherente linac de slac, que representa la vanguardia en una gran inversión mundial en instalaciones que pueden combinar la difracción in situ con a...

  • foto combinada y litografía con haz de electrones con resistencias de metacrilato de polimetilo (pmma)

    2016-08-24

    abstracto describimos técnicas para realizar fotolitografía y litografía con haz de electrones en sucesión en el mismo sustrato cubierto de resistencia. las aberturas más grandes se definen en la película resistente a través de la fotolitografía, mientras que las aberturas más pequeñas se definen a través de la litografía con haz de electrones convencional. los dos procesos se llevan a cabo uno después del otro y sin un paso de desarrollo húmedo intermedio. al final de las dos exposiciones, la película de resistencia se desarrolla una vez para revelar las aberturas grandes y pequeñas. curiosamente, estas técnicas son aplicables a las litografías de tonos tanto positivos como negativos con exposición tanto óptica como de haz de electrones. El metacrilato de polimetilo, por sí mismo o mezclado con un agente de entrecruzamiento fotocatalítico, se usa para este propósito. demostramos que tales resistencias son sensibles a la radiación ultravioleta y al haz de electrones. las cuatro combinaciones posibles, que consisten en litografías ópticas y de haz de electrones, llevadas a cabo en tono positivo y negativo modos se han descrito. se han mostrado estructuras de rejillas de demostración y se han descrito las condiciones del proceso para los cuatro casos. fuente: iopscience Para obtener más información, por favor visite nuestro sitio web: http://www.semiconductorwafers.net , s terminar con nosotros por correo electrónico en angel.ye@powerwaywafer.com o powerwaymaterial@gmail.com .

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